BioChem - DOS

스퍼터링용 구리 타겟재 및 스퍼터링용 구리 타겟재의 제조방법

대한민국

(과제) 본 발명은, 스퍼터링에 의하여 절연기판이 구비하는 바탕층상에 전극배선으로서 저저항인 순Cu막을 형성시킬 수 있는 스퍼터링용 구리 타겟재 및 스퍼터링용 구리 타겟재의 제조방법을 제공한다. (해결수단) 순도가 99.9% 이상인 무산소 구리의 주조재에 의하여 형성되고, 스퍼터링면의 평균결정립 지름이 0.07mm 이상 0.20mm 이하이며, EBSD법에 의하여 스퍼터링면의 결정면 방위를 측정하고, (111)면, (200)면, (220)면, (311)면으로부터 ±15° 이내의 경사각을 구비하는 결정면은 각각 (111)면, (200)면, (220)면 또는 (311)면에 포함시키는 것으로 하고, EBSD법에 의한 측정영역의 면적을 100%로 했을 때에 (111)면, (200)면, (220)면 및 (311)면 이외의 면의 면적율이 15% 이하이다.

C22C; C22F; C23C

1020140063569

2014-05-27

1020150007204

2015-01-20

가부시키가이샤 에스에이치 카퍼프로덕츠

10.8080/1020140063569

https://doi.or.kr/10.8080/1020140063569

https://plus.kipris.or.kr/kiprisplusws/fileToss.jsp?arg=d8ed8dd5b70e0b90dcfe8daca075789a008a7c1755661a44e9a1dac624313cc1e8410adddd61fbb1771865b2428e3b064ed06a2c4f60a748474b3675760c40f456a3b7fddfe92c99

https://plus.kipris.or.kr/kiprisplusws/fileToss.jsp?arg=2ba38663aa11ff0f6ca91af6061a2e003cec406fdbc834ba651e23bb7baa06de0f609534ad79ce3a945d0a0eab7564e150ec5123816c298e7d59eda19159ec5d5cce2b2d82ab7460