초록
본 발명의 실시예에 따른 케미컬 공급 장치는, 케미컬이 수용되는 캐니스터; 캐니스터와 해당 반도체 제조 공정이 진행되는 프로세스 챔버 사이를 연결하며, 케미컬이 이동하는 경로를 형성하는 이동부; 이동부의 경로 상에 배치되며, 펠티에 효과(Peltier effect)를 이용하여 캐니스터로부터 이송된 액체 또는 액화가스 상태의 케미컬을 기체 상태로 변환시키는 열펌프부를 구비하는 기화 유닛;을 포함할 수 있다. 본 발명에 따르면, 기화 유닛 내에서 펠티에 효과(Peltier effect)를 이용하여 케미컬을 기체 상태로 변환할 수 있어 해당 반도체 공정이 진행되는 프로세스 모듈로 기체 상태의 케미컬을 원활하게 공급할 수 있으며, 따라서 이동 라인 상에 파티클 등이 잔존하는 것을 저지할 수 있다.