공정 관리 시스템 및 장치
대한민국
본 발명의 실시 형태에 따른 공정 관리 시스템은, 소정의 공정 변수에 의해 제어되는 반도체 공정을 복수의 웨이퍼에 적용하는 공정 장비, 및 상기 공정 변수에 대한 통계 데이터를 획득하고, 상기 복수의 웨이퍼로부터 기준 웨이퍼를 선택하는 제어 장비를 포함하고, 상기 제어 장비는 상기 기준 웨이퍼에 적용된 상기 공정 변수를 상기 통계 데이터와 비교하여 상기 공정 변수의 기준 조건을 설정할 수 있다.
H01L
1020140025179
2014-03-03
1020150103578
2015-09-11
삼성전자주식회사
10.8080/1020140025179
https://doi.or.kr/10.8080/1020140025179
https://plus.kipris.or.kr/kiprisplusws/fileToss.jsp?arg=d8ed8dd5b70e0b90dcfe8daca075789a008a7c1755661a4445cb65d11124b58bfd132bd23ec224b4adb94ad3a1ee54a65de292e92614ae099163207f4f0bb6379aa8e13a631f5b3e
https://plus.kipris.or.kr/kiprisplusws/fileToss.jsp?arg=2ba38663aa11ff0f6ca91af6061a2e00d6f608d1939b42febde1ab610729e55a6293ad4ec712ba4d1a50738c9e69bad37b3132c15b550049a3b9956896907959c3db1aac03063a02
총 0건의 논문이 있습니다.
총 0건의 특허가 있습니다.
총 0건의 무역이 있습니다.
총 6건의 후보군 물질이 있습니다.
특허; 2023-12-11