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반도체 소자 및 그의 제조방법

메타 데이터

바이오화학분류
    • 바이오정밀화학
      1. 기타
특허명

반도체 소자 및 그의 제조방법

국가

대한민국

초록

본 발명은 펀치-쓰루(Punch-Through) 현상을 개선하고, 바디의 부피를 증가시킬 수 있는 반도체 소자 및 그의 제조방법을 개시한다. 개시된 본 발명에 따른 반도체 소자는, 실리콘 기판과 절연층 및 실리콘층의 적층 구조를 포함하며, 상기 실리콘층에서의 게이트 형성 영역 양측 가장자리 부분이 리세스되어 상단부보다 하단부의 폭이 더 넓은 핀 패턴이 형성된 SOI 기판; 상기 핀 패턴을 감싸도록 형성된 게이트; 및 상기 게이트 양측의 실리콘층 내에 형성된 접합 영역;을 포함한다.

IPC코드

H01L

출원번호

1020080036617

출원일자

2008-04-21

공개번호

1020090111046

공개일자

2009-10-26

출원인

에스케이하이닉스 주식회사

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1 2023-12-11
2 2023-12-11

특허; 2023-12-11

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