반도체 폐가스 처리용 플라즈마 토치
대한민국
본 발명은 반도체 폐가스 처리용 플라즈마 토치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 플라즈마의 고열에너지를 이용하여 반도체 제조시 발생하는 폐가스인 CF 4 를 신속하면서 안전하게 분해 및 무해화 처리할 수 있도록 플라즈마 화염을 발생시킴과 아울러 플라즈마와 스팀을 동시에 반응로로 제공하는 반도체 폐가스 처리용 플라즈마 토치에 관한 것이다.
H05H
1020170088963
2017-07-13
1018326660000
2018-02-20
주식회사 디온시스
10.8080/1020170088963
https://doi.or.kr/10.8080/1020170088963
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특허; 2023-12-11