BioChem - DOS

단일 노출로 복수의 층 패턴을 형성하기 위해 3상태를 갖는 포토마스크

대한민국

본 개시는 리소그래피 노출 프로세스용 마스크의 하나의 실시예를 제공한다. 마스크는, 마스크 기판; 제1 층 패턴을 정의하는 제1 복수의 개구를 갖도록 패터닝된 제1 마스크 재료 층; 및 제2 층 패턴을 정의하는 제2 복수의 개구를 갖도록 패터닝된 제2 마스크 재료 층을 포함한다.

G03F; H01L

1020140057319

2014-05-13

1020140134623

2014-11-24

1017198670000

2017-03-20

타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드

10.8080/1020140057319

https://doi.or.kr/10.8080/1020140057319

https://plus.kipris.or.kr/kiprisplusws/fileToss.jsp?arg=d8ed8dd5b70e0b90dcfe8daca075789aff8621a152701946bba6f441024519b20e43c361648a242af85a883d0e164d0a794f1163e12d89dbe2b2d74fa54ba45e721d14d009b06eb2

https://plus.kipris.or.kr/kiprisplusws/fileToss.jsp?arg=2ba38663aa11ff0f6ca91af6061a2e00b81272266d8ca6a5c89a28477cf449412aeff0b4cbda6148bc3777eb36a9d685a800d10614f7d7426c1e8d25dceaf24eb643c08908790403