본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치는, 공정챔버 및 상기 공정 챔버로 가스를 공급하는 가스 공급 유닛을 포함하되, 상기 가스 공급 유닛은, 상기 공정챔버 내 복수의 영역 각각으로 상기 혼합가스를 분배하는 분배기, 상기 분배기로 각각 서로 다른 가스를 공급하는 복수 개의 가스 공급라인, 상기 복수 개의 가스 공급라인 상에 각각 설치되어 가스를 공급하는 유량 제어 유닛 및 상기 유량 제어 유닛 각각을 거쳐 토출된 가스의 유량을 각각 측정하여 가스보정계수를 계산하는 제어기를 포함하되, 상기 가스보정계수와 상기 분배기를 흐르는 혼합가스의 유량을 측정하여 상기 혼합가스의 실제 유량을 측정할 수 있다.