BioChem - DOS

상압 건조 장치 및 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법

대한민국

본 발명의 과제는 피처리 기판 상에 도포된 처리액의 막에 대해 감압 건조 방법을 이용하지 않고 도포막의 벌크 부분을 적당하게 액상 내지 덜 마른 상태로 유지한 채로 액막의 표면에 적당한 고화층을 형성하는 것이다. 상류측에 인접한 레지스트 도포 유닛에서 레지스트액이 도포된 기판(G)은, 냉각용 부상 스테이지(106) 상에서 그때까지의 상온으로부터 그보다도 낮은 온도까지 냉각된다. 이 기판 이면측으로부터의 냉각에 의해 기판(G) 상의 레지스트 도포막은 하면으로부터 냉각된다. 한편, 기판(G)이 가스 노즐(134)의 아래를 통과할 때에, 혹은 통과한 직후에 가스 노즐(134)로부터 건조용 공기 A가 기판(G)의 상면, 즉 레지스트 도포막의 표면에 쏘여진다. 피처리 기판, 레지스트 도포 유닛, 가스 노즐, 부상 스테이지, 액막

G02F; G03F; H01L

1020080091858

2008-09-19

1020090031271

2009-03-25

도쿄엘렉트론가부시키가이샤

10.8080/1020080091858

https://doi.or.kr/10.8080/1020080091858

https://plus.kipris.or.kr/kiprisplusws/fileToss.jsp?arg=fc755b99649ebbb6ea812ef40ed6ce9680ad79d96b1d1a969de4c2f6901b76d6f2ec9d8c9208ac35f2eb0afd7ea3bee15b93c7719c534877e63537c419990fc92dbb23a32a504159

https://plus.kipris.or.kr/kiprisplusws/fileToss.jsp?arg=452306798ef1fd035bfb5ff666db4c9c8b05d8ff1d82925178b3c003275fef0210446c4b5b5ee72ced4d7f9202430334