초록
본 발명에 따른 화학기상 증착장치는 공정 챔버, 상기 공정 챔버 내부에서 웨이퍼를 지지하는 서셉터 및 상기 공정 챔버 내부에 설치되어, 복수개의 구획된 공간을 가지며 상기 공간으로부터 제 1공정가스 또는 캐리어가스를 상기 서셉터를 향해 선택적으로 분사하는 제 1챔버와 단일 공간을 가지며 제 2공정가스를 상기 공정 챔버 내부로 분사하는 제 2챔버를 구비하는 샤워헤드를 포함한다. 본 발명에 의하면, 샤워헤드에서 공정 챔버로 공급하는 공정가스 및 캐리어 가스를 선택적으로 제어할 수 있는 적어도 하나 이상의 모듈을 구비하여, 각 공정 상황에 맞춰 각 가스의 흐름을 제어하여 공급함으로서 균일한 박막 증착이 이루어질 수 있는 효과가 있다.