초록
본 발명은 반도체 제조 공정 등 진공 챔버를 이용하여 대기압보다 낮은 압력 환경에서 이루어지는 공정 중 진공 챔버 내의 가스 배출시에 기구적인 구동부 없이도 챔버 내부 진공도를 일정하게 유지하면서 가스를 배출할 수 있는 자동 압력 조절 장치에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 자동 압력 조절 장치는, 공정 챔버의 배기 가스 라인 상에 설치되며, 배기 가스 유입공과 배기 가스 유출공이 이격되어 형성되는 밸브 하우징; 상기 밸브 하우징 내부를 관통하여 형성되며, 일단은 상기 배기가스 유입공에 연통되고 타단은 상기 배기가스 유출공에 연통되어 배기 가스의 통과 경로를 제공하는 배기가스 이동로; 상기 배기가스 이동로 중 상기 배기가스 유출공 측 말단에 설치되며, 상기 밸브 하우징 내부에서 상기 배기가스 유출공 방향으로 불활성 기체를 분사하는 이젝터; 상기 이젝터에 연결되어 설치되며, 상기 이젝터에서 분사되는 불활성 기체를 제어된 분사 압력으로 공급하는 불활성 기체 공급부;를 포함한다.