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반도체 제조공정에 사용되는 이중배관

메타 데이터

바이오화학분류
    • 바이오정밀화학
      1. 기타
    • 화장품용 기능성소재
      1. 향수
    • 의료용 화학소재
      1. 치료제
      2. 식품첨가제
특허명

반도체 제조공정에 사용되는 이중배관

국가

대한민국

초록

본 발명은 반도체 제조공정에 사용되는 이중배관에 관한 것으로서, 특히 반도체 생산설비와 부대설비 사이를 연결하고, 상기 반도체 생산설비에서 배출되는 고온의 가스가 내부를 유동하는 복수개의 내부배관과; 내측면이 상기 내부배관의 외측면을 일정거리 이격되게 둘러싸고, 외측면 일측에 냉각수 투입구가 구비됨과 아울러 외측면 타측에 냉각수 배출구가 구비되는 복수개의 외부배관과; 인접한 각 외부배관의 냉각수 투입구와 냉각수 배출구를 연결하는 연결관;을 포함하여 구성되어, 고온의 가스를 냉각수로 냉각시킴으로써 고온으로 인한 내부배관과 외부배관의 변형과 파손을 최소화할 수 있는 효과가 있다.

IPC코드

H01L

출원번호

1020130114009

출원일자

2013-09-25

등록번호

1013503490000

등록일자

2014-01-06

출원인

(주)보영테크

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1 2023-12-11
2 2023-12-11

특허; 2023-12-11

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