본 발명은 챔버 내부에 클린 에어를 공급하는 과정에서 기판이 위치하는 챔버 중앙부와 기판을 둘러싼 챔버 가장자리에 클린 에어를 차등 공급하여 기체의 와류로 인한 기판의 오염을 방지할 수 있는 에어공급부 및 기판 처리 장치를 제공하는데 그 목적이 있다. 이를 구현하기 위한 본 발명은, 기판의 처리가 이루어지는 챔버와, 기판을 지지하는 기판지지부, 기판처리가 완료된 유체를 배출하는 유체배출부, 및 상기 챔버 내부에 에어를 차등 공급하는 에어공급부를 포함한다.